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    微通道板通道內壁制備中子敏感膜層的方法

    955   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
    2023-03-19 08:57:00
    本發明提供一種微通道板通道內壁制備中子敏感膜層的方法，包括：采用原子層沉積技術，使用有機硼前驅體和臭氧或氧等離子體作為兩種反應物通過化學反應生成10B2O3膜層；反應產物除了沉積于通道內壁的10B2O3膜層之外，還有胺類及有機氣體，無對MCP基底有害的鹵化氫氣體，因此沉積膜層整體質量較高；通過制備中子敏感膜層的形式，比通過均勻摻雜在MCP基底玻璃中，探測效率可以達到更高的水平。
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    “微通道板通道內壁制備中子敏感膜層的方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業用途，請聯系該技術所有人。
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    化學分析
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