本發明公開了一種利用能譜分析無損檢測試樣膜厚的方法,利用不同成分的膜層在加速電子轟擊下,會激發不同特征X射線的原理,對標塊進行加速電子轟擊,制定出膜層特征元素與膜厚之間的對應關系標準曲線,然后分析對待測試樣進行加速電子轟擊后得出的X射線的強度與頻率,得到元素的含量,對比標準曲線,計算出膜層厚度。本發明僅采用常見的掃描電子顯微鏡和能譜儀,無需額外的檢測特制輔助設備和配件投入,成本低且操作簡單,適用于納米及微米范圍內,無機非金屬、高分子和金屬各類膜層,同時適用于單層、雙層和三層復合膜層的膜厚檢測,適用范圍廣,且不會對樣品造成損壞。
聲明:
“利用能譜分析無損檢測試樣膜厚的方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)