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    基于惰性離子束刻蝕的氚污染光學膜無損去除方法

    1057   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
    2023-03-19 08:58:04
    本發明屬于光學元件制造技術領域，具體涉及一種基于惰性離子束刻蝕的氚污染光學膜無損去除方法。針對現有技術中使用酸刻蝕去除氚污染的光學膜的缺點，本發明的技術方案是：首先測定與待去膜光學元件同工藝的光學膜厚度；然后標定離子束對元件表面光學膜的刻蝕速率；最后采用能量為100eV～1500eV，束流為100mA～500mA，離子束入射角度為?90°～90°的惰性離子束對元件表面的氚污染光學膜進行準確刻蝕去除。采用本發明方法，可有效地解決現有酸刻蝕技術去除氚污染光學膜的不足，同時保證光學基底的表面質量、光學性能及抗激光損傷能力不受影響。
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