本發明涉及薄膜技術領域,具體涉及一種基于反射率光譜測量光學薄膜厚度的方法及系統。一種基于反射率光譜測量光學薄膜厚度的方法,提供多組已知光學薄膜厚度的標準樣品,獲得多組標準樣品中光學薄膜厚度與光學薄膜反射率光譜的色空間坐標之間的對應關系;基于測量待測樣品的反射率光譜并獲取其對應的色空間坐標,并依據所述對應關系得到待測樣品的光學薄膜厚度。在測量待測樣品的反射率光譜時,對于待測樣品表面的光學薄膜不會造成損害,且測試時間短,因此本發明所提供的方法具有對光學薄膜無損害,且測量快速的優點。一種基于反射率光譜測量光學薄膜厚度的系統,具有對光學薄膜無損害,且測量快速的優點。
聲明:
“基于反射率光譜測量光學薄膜厚度的方法及系統” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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