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    摻雜二硅酸镥亞微米成像熒光屏及其制備方法

    820   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
    2023-03-19 08:58:43
    一種摻雜二硅酸镥亞微米成像熒光屏及其制備方法，它是在特定晶面方向的二硅酸镥襯底上采用電阻加熱液相外延爐生長摻雜二硅酸镥閃爍薄膜形成的透明熒光屏，其結構表述為：(CexMzReyLu1－x－y－z)2Si2O7/(Lu1－yRey)2Si2O7，其中：0.001≤x≤0.01，0≤y≤0.3，0.001≤z≤0.01。Re代表Sc、Er、La、Ho、Dy、Yb、Y、Gd或In等的一種或多種，M代表Eu或Tb中的一種，這種熒光屏可以廣泛應用于科學研究、醫療、工業無損檢測、地質勘探、安全檢查以及國防等射線探測領域中。
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