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    半導體深孔刻蝕后的工藝監控方法

    865   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
    2023-03-19 08:58:57
    本發明提供了一種半導體深孔刻蝕后的工藝監控方法，包括以下步驟：a.提供具有預定形狀和尺寸的測試結構；b.測量所述測試結構的質量，得到容差范圍；c.測量待監控晶圓的質量，并與所述容差范圍進行比較，若待監控晶圓的質量值在容差范圍內，則認為深孔的刻蝕深度已經達到要求；若不在容差范圍內，則深孔的刻蝕深度沒有達到工藝要求，需要對刻蝕工藝條件進行調整。本發明采用無損傷的高精度質量量測方法，通過測量硅深孔硅刻蝕后的質量，來間接表征硅深孔刻蝕深度是否達到工藝要求。晶圓整片測量，不需要特定測試結構，方便快捷；且反饋結果直觀，快速，準確，且對晶圓無損傷。
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    “半導體深孔刻蝕后的工藝監控方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業用途，請聯系該技術所有人。
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