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    鍺硅工藝中顆粒缺陷的檢測方法

    1140   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
    2023-03-19 09:00:05
    本申請公開了一種鍺硅工藝中顆粒缺陷的檢測方法，屬于半導體制造技術，該方法包括：提供一硅襯底，所述硅襯底上制作有帶有側墻的柵極結構；在所述柵極結構兩側的區域制作溝槽；在溝槽內生成鍺硅外延層；通過薄膜淀積工藝生長間隙層，所述間隙層在所述鍺硅外延層的上方；檢測顆粒缺陷，所述顆粒缺陷由生成所述鍺硅外延層的工藝造成；解決了在鍺硅當站因機臺檢驗極限的限制，極微小顆粒缺陷的檢出率不高的問題；達到了提高顆粒缺陷的檢出率，降低了檢驗失效率和成本損失的效果。
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    聲明：
    “鍺硅工藝中顆粒缺陷的檢測方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業用途，請聯系該技術所有人。
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