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    硅通孔的測試結構及測試方法

    965   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
    2023-03-19 09:00:10
    本申請提供一種硅通孔的測試結構及測試方法，所述測試結構包括：半導體襯底；至少一種參考測試單元，位于所述半導體襯底中，用于輸出測試數據，包括參考測試溝槽電容組以及硅通孔結構，其中所述參考測試溝槽電容組環繞所述硅通孔結構分布；基準測試單元，位于所述半導體襯底中，用于輸出基準數據，包括基準測試溝槽電容組，所述基準測試溝槽電容組與所述參考測試溝槽電容組的結構相同。所述測試結構及測試方法可以監測TSV制備中對介電層產生的工藝影響，通過測試襯底和TSV間的電阻、電容和漏電流大小，來推算TSV隔離層的電性厚度及隔絕能力等性能，有助于制程出現問題時的輔助失效分析。
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    聲明：
    “硅通孔的測試結構及測試方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業用途，請聯系該技術所有人。
    我是此專利(論文)的發明人(作者)
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