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    > 硅通孔的測試結構

    硅通孔的測試結構

    1124   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
    2023-03-19 09:00:13
    本發明涉及一種硅通孔的測試結構，包括：半導體襯底；硅通孔，部分嵌于所述半導體襯底內；導電材料層，位于所述半導體襯底上方、所述硅通孔的外側并與所述硅通孔相連接；其中，所述硅通孔以及所述導電材料層構成電容測試結構。本發明提供了一種晶圓可接受測試（WAT）的測試結構，用硅通孔，硅通孔隔離層以及多晶硅來形成電容結構，通過測試該電容結構的電容值和電容的漏電，來（1）推算TSV隔離層的電性厚度，（2）測試TSV的漏電流大小。所述測試結構不僅有助于偵測TSV隔離層的隔絕能力，而且可以幫助出現問題時的PFA（物理失效分析）定位。
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    “硅通孔的測試結構” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業用途，請聯系該技術所有人。
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