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    用于透射電子顯微鏡俯視觀察的芯片樣品制備方法

    1095   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
    2023-03-19 09:00:38
    本發明提供一種用于透射電子顯微鏡俯視觀察的芯片樣品制備方法，包括：提供待測樣品，在待測樣品的頂面沉積第一保護層，使第一保護層覆蓋以與待分析目標相垂直對應的待測樣品的頂面部分為中心擴展的矩形區域；在第一保護層的四個頂角以及四條邊緣的中心位置沉積呈正方形的第二保護層；沉積第三保護層，以完全覆蓋第二保護層和第一保護層；去除位于第一保護層所覆蓋的部分之外的待測樣品，使待測樣品的兩個相平行的側面的下部呈倒三角形；將待測樣品的下部呈倒三角形的兩個側面之一附著于支撐臺上；通過精磨去除第三保護層、第二保護層和第一保護層。根據本發明，可以將制備樣品的時間控制在1小時之內，不會損傷待測樣品中出現失效的部分。
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    聲明：
    “用于透射電子顯微鏡俯視觀察的芯片樣品制備方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業用途，請聯系該技術所有人。
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    失效分析
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