本發明提供了一種制備透射電鏡樣品的方法,包括:提供待觀測芯片,所述待觀測芯片包含一待觀測區域;對所述待觀測芯片的正面和/或背面進行減薄,得到初樣;將一空心環固定在所述初樣正面,所述待觀測區域位于所述空心環內;通過干法刻蝕對所述初樣進行減薄,得到透射電鏡樣品。在本發明提供的制備透射電鏡樣品的方法中,將一空心環固定在減薄處理后的初樣上,通過空心環來確定待觀測區域,再通過干法刻蝕所述減薄后的初樣,從而制備成適合透射電鏡觀測的樣品,形成超大面積的觀測區域,滿足相關案例需求,填補失效分析技術空白,提高工作效率。
聲明:
“制備透射電鏡樣品的方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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