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    > 鋁通孔芯片的去層方法

    鋁通孔芯片的去層方法

    1124   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
    2023-03-19 09:00:54
    本發明提供一種鋁通孔芯片的去層方法，該鋁通孔芯片的去層方法包括如下步驟：S1：將芯片進行干法刻蝕，露出鋁金屬；S2：通過濕法刻蝕將鋁金屬反應掉，使和鋁金屬緊貼的阻擋層露出；S3：鋁金屬反應掉后，鋁孔也會被反應，因此會在阻擋層上留下與下層金屬連接的孔洞，該孔洞就是通孔的位置；S4：采集該層次的圖像將金屬線的信息和下層孔的信息全部進行采集。該鋁通孔芯片的去層方法具有的優點如下：該方法可以很好地解決同層金屬線不在同一水平面上，不同位置的金屬線有一個高度的落差，且現有的加工方法會導致做失效分析或電路分析時，電路信息丟失的問題。
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    聲明：
    “鋁通孔芯片的去層方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業用途，請聯系該技術所有人。
    我是此專利(論文)的發明人(作者)
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