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    > 提高GaN HEMT退火成功率的方法

    提高GaN HEMT退火成功率的方法

    1339   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
    2023-03-19 09:02:32
    本發明涉及一種提高GaN HEMT退火成功率的方法，屬于半導體器件技 術領域。所述方法包括：測量GaN HEMT的肖特基反向特性曲線；根據測得 的肖特基反向特性曲線，繪制以ln|I|為縱坐標，Vr1/4為橫坐標的電流電壓 曲線；根據位于小于器件閾值電壓區域內的電流電壓曲線形狀，判斷是否對 GaN HEMT進行退火。本發明通過根據肖特基反向特性曲線繪制的電流電壓曲 線，對GaN HEMT退火后其直流特性能否上升進行判斷，從而選擇性地對器 件進行退火，以降低退火后器件失效的數量，提高器件的退火成功率，同時 節約了成本。
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