陣列式PECVD(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition)是一種高效、大面積的化學氣相沉積設備,通過等離子體激活反應氣體,在低溫下實現高質量薄膜的快速沉積。
三個真空室共用二套真空機組。沉積室的樣品臺可加熱、可升降。
本套系統的三個沉積室采用圓柱形(φ430*456)立式安裝全封閉結構,門上帶觀察窗;整套機組所用主要器件有插板閥五個(連接幾個沉積室的插板閥為CF150的二個,其余三個CF150插板閥連接分子泵)。分子泵三臺(600L/S)、機械泵三臺(4L/S),可升降、帶加熱樣品臺三套、樣品傳遞機構一套,其中二個CF150插板閥是三個真空室之間傳遞樣品用的。
電控方面主要器件有;電控柜兩臺、PLC程控機一臺、樣品臺加熱電源三臺、真空計四臺、流量顯示儀2臺及其它各種電器配件等等。
系統構成包括沉積室(P、N、I室)、氣路控制系統、電控系統、安全保護報警系統等部分。
抽真空時間:沉積室;40分鐘達5x10-4 Pa,
設備總體漏率;停機12小時后≤ 5Pa。