設備介紹
此款定制高溫氣相沉積系統由高溫沉積室、升華室、供氣系統及真空系統組成。該CVD高溫管式爐主要用廣泛應用于半導體工業中沉積薄膜材料,包括大范圍的絕緣材料,以及大多數金屬材料和金屬合金材料、二維材料等,如
碳化硅鍍膜、陶瓷基片導電率測試、ZnO納米結構的可控生長、陶瓷電容(MLCC)氣氛燒結等實驗。
產品優勢
超溫保護和報警
有超溫保護和報警,及過熱和熱電偶斷裂保護功能,允許在無人值守的情況下運行
30段智能PID程序控溫
控溫系統采用PID方式調節,可以設置30段升降溫程序,控溫精度可以達到±1℃
法蘭采用雙環密封技術
有效的提高了法蘭的氣氛性,法蘭上裝有多種接頭,可接電阻真空計、真空波紋管并能做成容易撤卸的鉸鏈式
技術參數
產品名稱 定制高溫CVD系統
沉積爐
產品型號 KJ-T1500CVD-DZ
爐膛模式 開啟式
加熱元件 U型硅鉬棒
極限溫度 1600℃高溫區
工作溫度 ≤1500℃高溫區
升溫速率 ≤10℃/min
加熱溫區 單溫區、雙溫區、多溫區,可根據需求選擇
溫區總長度 200mm、300mm、400mm可選
(其他尺寸可根據客戶需求定制)
爐管材質 剛玉管
爐管直徑 40mm、50mm、60mm、80mm、100mm可選
(其他尺寸可根據客戶需求定制)
密封方式 定制不銹鋼真空法蘭一套(含密封硅膠圈)
底部法蘭有三個進氣口 方便進氣
底部法蘭加支架 方便工件放在沉積爐低溫區
控制模式 每個溫區單獨 30段智能PID程序控溫
溫度曲線 多段"時間—溫度曲線"任意可設
測溫元件 B型雙鉑銠熱電偶
供氣系統 集成在控制柜上
氣體通道 可同時連接多種氣源
流 量 計 浮子流量計
A路量程 1L/MIN
B路量程 1L/MIN
C路量程 1L/MIN
氣路壓力 -0.1~0.15 MPa
截止閥 不銹鋼材質
氣體連接管 1/4不銹鋼管
氣化爐A、B
最高溫度 700℃
工作溫度 ≤500℃
爐膛尺寸 定制
開門方式 上開
進氣口 一個進氣口
出氣口 一個出氣口
售后服務 12個月質保(易耗件及人為損壞除外),終身保修