產品名稱 高壓氣體滲氮多功能真空爐
設備型號 :HZQD-80,HZQD-120,HZQD-180,HZQD-200
最高溫度 :1300℃
極限真空度 :4×10-1Pa
爐溫均勻性 :≤±5℃
壓升率:≤0.6Pa/h
產品規格 :
用途 :
主要完成高溫合金鑄件的均勻性、固溶、時效、回火等真空熱處理,同時還具有氮化功能。
優勢與特點 :
直接加熱:采用真空加熱爐的結構,加熱元件直接加熱零件,節能省時、升溫快。
爐內壓力高:采用高壓爐體結構,爐內氨氣壓力在負壓到6bar范圍內可調。
冷卻快:設有高效風冷系統,可在約20分鐘將零件從滲氮溫度冷到100℃以下,可有效提高滲層的性能 ,減少滲層的脆性組織,避免產生回火脆性現象。
冷管進氣:氨氣由室溫直接進入加熱室,利用率高。
雙系統利于擴散過程:可在4×10-1Pa真空狀態下,加熱、凈化表面零件;采用充氣系統,在0.1~0.5 MPa氨氣壓力下進行滲氮;在4×10-1Pa真空狀態下進行擴散處理。
全密封真空結構,車間內無氨氣味。
采用一體化工控機對整臺設備的工況進行控制和記錄。傳統的操作系統,易學易用;友善的圖形化人機控制界面,可動態地實施顯示工藝過程和運動狀態。全數字化監控溫度、真空度等數據信息,并可同時進行數據存儲、曲線記錄等。
全自動控制,可實現“在線”生產管理
具有安全互鎖、故障診斷和異常報警功能