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設備名稱 Equipment Name
管式A&P設備 Horizontal PEALD (A&P)
管式A&P設備型號 Equipment Model
PD-520L/PD-520MAX
設備用途 Equipment Application
AlO+SiN薄膜沉積。
AlO+SiN Thin-film Deposition.
管式A&P設備技術特點 Features
1、原子層沉積工藝特性，成膜均勻性好。
Atomic layer deposition process, with better film uniformity.
2、同機臺或同管完成多層膜沉積，減少工藝環節，有效提升良率、降低碎片率。
Multi-layer thin film deposited in the same process equipment or same furnace tube, reducing process steps and wafer breakage rate, improving yield effectively.
3、自主研發液態源前驅體蒸氣輸送與前驅體快速切換技術。
Independent R&D of liquid source precursor vapor delivery and precursor rapid switching technology.
4、適應不同前驅體、不同材料鈍化層沉積，工藝拓展空間大。
Suitable for deposition of passivation layer for different precursors and materials, with a large space for process expansion.
設備參數 Parameters
·最大兼容硅片尺寸:230mm
·Max.Compatible Wafer Size:□230mm
·單機管數:6管
·Tube Configuration:5 tubes/6 tubes
·單管裝片量Loading Capacity/Tube
機型Model:182□210
PD-520L(6管):640片/管(pcs/tube)\504片/管(pcs/tube)
PD-520MAX(6管):768片/管(pcs/tube)\616片/管(pcs/tube)
·單機產能Throughput
機型Model:182\210
PD-520L(6管/tubes):3100片/小時(pcs/h)\2450片/小時(pcs/h)
PD-520LMAX(6管/tubes):3700片/小時(pcs/h)\3000片/小時(pcs/h)
·外形尺寸(mm，含地腳、不含泵)Footprint (mm, incl. leveling foot, excl. pumps)
PD-520L:9570x2150x4410(6管/tubes)
PD-520MAX:11050x2150x4500(6管/tubes)
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湖南 - 長沙
2025年08月07日 ~ 09日
