設備介紹
真空RTP退火爐是一款真空度比較高的快速熱處理管式爐,配有石英腔體和真空法蘭,采用鹵素燈加熱,升溫速度可達50℃/秒,PID自動控制,30段可編程序,它是專為半導體或
太陽能電池基片的退火而設計。該高溫退火管式爐可在真空、氣氛環境下,對樣品進行快速熱處理,主要應用于院校實驗室、工礦企業實驗室,如:薄膜沉積,不同材料快速退火、硅化、擴散、晶化和致密化等。
產品優勢
鹵素燈加熱 升溫速度快
加熱元件采用鹵素燈加熱,升溫速度可達50℃/秒
底部滑軌設計 實現快速冷卻
爐子的底部安裝有一對滑軌,可使爐子從爐管的一側滑動到另一側,以實現快速加熱和快速冷卻
30段高精度數字可編程
30段高精度數字可編程溫度控制器,控溫精度高,可達±1℃
技術參數
產品名稱 RTP 快速退火爐
工作溫度 900℃
控 制 器 LED(可選配LCD觸屏)
爐 膛 開啟式 滑道式
爐管尺寸 根據需求尺寸定制
加熱元件 鹵素燈
升溫速率 ≤50℃/S
熱 電 偶 根據實際需要設計來配
溫度控制器 30段高精度數字可編程溫度控制器
特殊要求
具體細節可根據客戶需求定制(詳情歡迎來電咨詢我們)
1、可定制真空系統
2、可定制氣路系統
3、其他特殊工藝需求