本發明涉及一種利用離子注入技術對蛇紋石進行改性的方法,屬于物理技術材料改性技術領域。本發明的特點是將蛇紋石粉末放入離子注入機中,并對離子注入機的腔體進行抽真空,真空度要求為1×10-3-1×10-6Torr;以離子形式注入NH3,離子注入能量為30-60kev;注入通量為1×1017cm-2;注入時間為3-20min;最后將經離子注入后的樣品取出,即獲得有“N”元素注入的蛇紋石樣品。
聲明:
“利用離子注入技術對蛇紋石進行改性的方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)