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    用于真空磁控濺射的低含金量玫瑰金靶材及其制備方法

    1154   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
    2023-03-18 14:33:09
    本發明屬于冶金技術領域，具體涉及一種用于真空磁控濺射的低含金量玫瑰金靶材及其制備方法。本發明的用于真空磁控濺射的低含金量玫瑰金靶材的成分按重量百分比是：50~60wt.%Au-30~42wt.%Cu-1.4~5.0wt.%Zn-0.5~4.0wt.%Al-1.0~3.7wt.%In-0.1~1.3wt.%Co-0.05~1.5wt.%Y。其制備方法是：先將純金屬Cu和Co加熱熔化，再將純金屬Y、In、Al和Zn依次加入到熔化的銅鈷合金中，獲得中間合金，將Au加熱熔化，再將中間合金加入到熔化的Au中進行精煉，澆入模具，水淬獲得合金錠，對合金錠進行機械加工，獲得玫瑰金靶材。本發明的玫瑰金靶材含金量只有50~60wt.%Au，大大降低了使用和制備成本，具有更加優良的機械加工性能和廣闊的應用前景。
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