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    真空滅弧室用CuCr觸頭材料表面處理方法

    1052   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
    2023-03-18 14:33:13
    一種真空滅弧室用CuCr觸頭材料表面處理方法，觸頭材料進行機加工、清洗、干燥后，采用高能電子束對材料表面進行掃描，獲得厚度約100μm的電子束重熔層，且重熔層內Cr顆粒尺寸小于1μm。上述電子束掃描過程在真空環境下進行，真空度＜0.1Pa，電子束掃描頻率為350-450HZ，電壓55-65KV，電流60-70mA。由于經電子束掃描后，觸頭材料表面的晶粒明顯細化，因此其物理機械性能及電性能均有很大程度改善。
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