本發明公開了一種水熱腐蝕去除冶金級硅中雜質P的方法。按下述步驟進行:a)硅塊的破碎:將硅塊制成100~500目的硅粉;b)硅粉預處理:依次用鹽酸、雙氧水、氫氟酸、甲醇、純水對硅粉清洗并放入鼓風干燥箱干燥;c)硅粉的腐蝕:將預處理的硅粉用腐蝕液進行水熱腐蝕、保溫,之后倒進放有中速濾紙的漏斗中,用去離子水進行清洗、過濾后放入鼓風干燥箱中干燥,即得去除雜質P的硅;所述的腐蝕液為氧化劑、輔助劑、氫氟酸、純水組成的混合溶液。本發明制備工藝簡單,易操作,成本較低,能夠有效的降低冶金級硅中的P濃度,并能在工藝上使P的濃度很容易的控制。為冶金級硅中雜質P的去除提供了一種新的方法。
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