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    50A大電流快恢復二極管的制作方法

    927   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
    2023-03-18 14:45:02
    本發明公開了一種50A大電流快恢復二極管的制作方法，包括：提供N型半導體硅材料作為半導體襯底；在N型半導體襯底上摻雜N+型雜質；去除半導體襯底一面的N+型雜質層；在暴露出的N-型半導體材料上再雙雜質摻雜P+型雜質；再采用高溫擴散的方法進行重金屬鉑摻雜；進行第一次掩膜光刻；在鈍化槽中刮涂玻璃粉，高溫燒結成型，完成PN結玻璃鈍化；采用真空濺射法，在硅片兩面制作多層金屬化層；進行第二次掩膜光刻；將硅片分割成獨立的管芯；將芯片與引線組件冶金鍵合在一起；采用燒結的方法將芯片、引線組件與管座冶金鍵合在一起；采用儲能焊，將管帽與底座封焊成型。本發明受環境影響小，工藝成熟、穩定、重復性好，可廣泛用于大電流恢復二極管的大批量生產。
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    聲明：
    “50A大電流快恢復二極管的制作方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業用途，請聯系該技術所有人。
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