本發明涉及一種雙流體噴射器。它包括閥體、噴射機構、行程調節機構,閥體由中閥體的上下端分別固定連接上閥體和下閥體構成;在中閥體與上閥體間形成的內腔中安置行程調節機構,該行程調節機構為微分頭行程調節機構;在中閥體、下閥體與行程調節機構間形成的內腔中安置噴射機構,該噴射機構為雙流體噴射機構。通過調節輸入氣體和液體的流量和壓力來控制混合腔內的雙流體流型,實現液體從下閥體噴嘴的點狀、線狀以及霧狀噴射。本發明結構簡單、使用壽命長、氣體和液體可控性好、噴射精度高、工作頻率高,可用于半導體薄膜制備、復合材料制備、電子封裝、MENS系統、噴墨、噴涂、潤滑、粉末冶金、食品加工、生物醫藥、焊接、快速原型制造、燃燒、發動機、化工等多流體的噴射工藝。
聲明:
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我是此專利(論文)的發明人(作者)