本發明屬于快速流態化領域,主要是對快速流化床中空隙的徑向和軸向分布進行改進的工藝和裝置。其要點是在快速床濃相區設置能抑制床層邊壁區顆?;亓?使截面平均濃度下降、濃相區擴展的內部構件,從而使稀、濃相多次重復,形成以稀、濃為單元的分段,抑制顆粒的返混。由于構件將邊壁區刮下的顆粒轉移到上部稀相區,因而不損失整體快速床內的顆粒。本發明提出的裝置,其構件結構簡單,實施方便,操作方式及彈性不受影響??蓱糜谑?、化工、冶金、能源和環境等領域。
聲明:
“快速流化床空隙率再分配工藝及裝置” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)