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    高純鉭靶材的生產方法

    1054   編輯:管理員   來源:中冶有色網  
    2023-03-18 14:46:10
    本發明涉及一種高純鉭靶材的生產方法,其包括(1)將大小為5~10mm*5~10mm的鉭塊置于氫化爐中進行吸氫;(2)將吸氫完畢的鉭破碎成-200目的粉末,置于鋼包套中,按一定速率和階段進行升溫和抽氣,之后將鋼包套置于熱等靜壓機中進行燒結,燒結溫度為1100~1500℃,氣氛壓力為50~200MPa,最后機加工,切割成規定形狀,即得。本發明采取粉末冶金的方法并結合特定的工藝條件,可以獲得織構分布均勻、晶粒大小分布均勻且晶粒尺寸小的鉭靶材,該靶材具有高沉積速度和較好的膜均一性,產生出較少的電弧和粒子并具有較好的成膜性能。特別是,本發明的方法的工藝過程簡單,成本較低。
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