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    鐵硅磁性薄膜及其制備方法

    1065   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
    2023-03-18 14:46:35
    本發明涉及一種鐵硅磁性薄膜及其制備方法，其成分質量百分比含量為：2.0～10.0wt.％Si，以及余量的Fe。其制備方法包含：將分別含有鐵、硅元素的材料以粉末冶金的方法制備合金靶材；選擇單晶硅作為基底材料；將基底材料加熱至20?200℃之間；進行磁場真空蒸鍍，真空蒸鍍在保護氣中進行，所述真空蒸鍍的參數為，背底真空度高于7×10?5Pa，靶材加熱功率為40?80W，靶基距為45?80mm，保護氣體氣壓為0.3～2Pa，磁場通過高溫磁鐵產生，即獲得鐵硅磁性薄膜。與現有技術相比，本發明制備得到的鐵硅磁性薄膜表面均勻，粗糙度低，具有優異的軟磁性能，矯頑力低于2Oe，飽和磁感應強度高于9000Oe，且其制備方法的工藝可操作性強，制造成本低，對于磁性薄膜的應用發展前景有重要應用及意義。
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