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    鉬合金濺射靶材的制備工藝

    1135   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
    2023-03-18 14:46:35
    本發明屬于高溫難熔金屬靶材制備領域，具體涉及一種鉬合金濺射靶材的制備工藝，本發明采用粉末冶金方法制備，靶材所用原料包含合計原子百分比0.5％??40％的Ga、Ni、Nd元素組中的至少一種元素和原子比0.5％??40％的Ti作為摻雜金屬，余量為Mo和不可避免的雜質；本發明經過原料配比、原料混合、膠套裝粉定型、冷等靜壓作業、熱等靜壓作業、熱軋作業和機加工作業，得到最終所需產品尺寸；本發明工藝步驟簡單，操作便捷，制備的鉬合金濺射靶材耐氧化性、耐濕性、與PR膠的粘合力等各項技術指標優秀，可滿足高端電子產品鍍膜領域使用需求，且生產成本低，產品尺寸寬泛，便于工業化批量生產。
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    聲明：
    “鉬合金濺射靶材的制備工藝” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業用途，請聯系該技術所有人。
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