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    厚度為21.5μm的TiN膜制備方法

    768   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
    2023-03-18 14:49:01
    本發明公開了一種厚度為21.5μm的TiN膜制備方法，利用真空電弧離子鍍技術制備了厚度為21.5μm的TiN膜層，通過對電弧離子鍍技術中工藝參數的選擇性調整、工藝方法的合理設計，在粉末冶金材料GT35上通過克服材料變形、膜層內應力集中、膜層在銳邊夾角容易崩落、長時間沉積厚膜等的種種難題，解決了TiN硬質膜厚度在8μm以上無法制備的現狀，得到了膜層厚度、硬度、結合力等性能均優良的TiN厚膜。本發明能為航天技術領域中半球動壓馬達零件-球碗需要鍍TiN厚膜的設計要求提供生產技術支持。對航天技術的發展有非常好的實用價值和市場應用前景。
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