本發明公開了一種高純銦制備裝置,涉及有色金屬冶金技術領域。包括電解槽支架,電解槽支架上設有多個電解槽,在電解槽的一端設有電解循環系統,電解循環系統與電解槽連接,電解循環系統設有PH檢測傳感器;在電解槽的另一端設有電氣控制及監控系統和電源單元,電源單元為IGBT直流電源或硅整流直流電源的任一種,具備恒壓/恒流雙模式輸出及遠程智能控制等功能,控制及顯示精度≥0.1V/A;電氣控制及監控系統和電源單元均與電解槽電連接,電解槽的上方設有氣體收集單元。本發明可以解決現有技術存在生產過程工藝控制難度高,產品質量波動較大,生產環境惡劣,無法生產出合格穩定的產品的問題。
聲明:
“高純銦制備裝置” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)