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    > 作為用于垂直磁記錄的濺射靶的具有或不具有氧化物的NI-X、NI-Y和NI-X-Y合金

    作為用于垂直磁記錄的濺射靶的具有或不具有氧化物的NI-X、NI-Y和NI-X-Y合金

    994   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
    2023-03-18 14:50:25
    本發明的各實施方式一般涉及用于垂直磁記錄(PMR)應用的磁記錄介質的種子層的沉積,其中種子層提供晶粒大小細化和為隨后沉積的底層或顆粒磁性層提供降低的晶格失配,并且其中使用鎳(NI)合金基濺射靶沉積種子層。鎳(NI)合金可以是二元(NI-X;NI-Y)或三元(NI-X-Y)。另外,二元(NI-X;NI-Y)或三元(NI-X-Y)鎳(NI)基合金可以進一步與金屬氧化物形成合金,從而形成具有顆粒微結構的種子層薄膜,該顆粒微結構含有由富氧晶界包圍的金屬晶粒。各示例性實施方式的鎳基合金(具有或不具有金屬氧化物)可以通過粉末冶金技術或通過熔鑄技術制備,其采用或不采用熱-機械加工。
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    “作為用于垂直磁記錄的濺射靶的具有或不具有氧化物的NI-X、NI-Y和NI-X-Y合金” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業用途，請聯系該技術所有人。
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