本發明屬于稀散金屬的冶金領域,具體涉及用高純二氧化鍺連續還原鍺錠的一種新方法。本發明的方法是在石墨舟內裝入純度大于99.99%的二氧化鍺,石墨舟從石英管的預熱段推入進行三段加熱,預熱段加熱溫度為550~650℃,還原段加熱溫度為700~750℃,鑄錠段加熱溫度為980~1000℃,純度大于99%的氫氣由鑄錠段進入,進入的氫氣流量為0.2~0.3M3/H,每隔30分鐘推入推入一舟GeO2,經10小時還原后,取出石墨舟中鍺錠。本發明工藝流程簡單,還原反應操控容易,可減少中間操作環節,具有降低能耗、提高產能、減小氫氣用量優點。
聲明:
“高純二氧化鍺連續還原為鍺錠的方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)