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    再循環高純硅金屬的方法

    729   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
    2023-03-18 14:50:34
    用于再利用例如來自太陽能電池晶片或半導體器件制造中的高純硅的剩余物或其它殘留Si的方法,特征在于,來自晶片生產過程或半導體器件的干燥的切屑、碎片和/或其它殘留Si與冶金級硅一起用作生產四氯化硅(SiCl4)的直接氯化反應器(1)中的原料。不論其尺寸如何,未反應的切屑或其它排出反應區的未反應的小顆粒重復返回反應器用于進一步氯化。除反應器(1)外,方法中所包括的設備可包括用于混合和儲存Si原料/切屑的儲存和混合裝置(2)、用于分離和回收從反應器的反應區排出并通過返回進料裝置(9)被送回反應器的反應區的含硅顆粒的回收裝置(3)、在其中從反應器的反應區和回收裝置排出的最小尺寸的顆粒被在具有液態SiCl4的漿液中收集的冷凝單元(10)、和向其中加入額外的來自晶片生產過程或半導體器件的切屑、碎片和其它殘留Si并與隨后被直接加入反應器的反應區用于冷卻和控溫的已有的SiCl4/Si漿液混合的混合單元(13)。
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