本申請屬于陶瓷技術領域,具體涉及一種Si3N4基復合陶瓷及其制備方法。本發明所提供的Si3N4基復合陶瓷包括:Si3N4和添加劑;所述添加劑為MxOy和Re2O3;M選自Mg或Al,1≤x≤3,1≤y≤3;Re選自Sc、Y、La、Ce、Pr、Nd、Pm、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb或Lu。本發明選擇MxOy和Re2O3作為燒結助劑,通過引入MxOy和Re2O促進Si3N4致密化,進一步改善了Si3N4陶瓷的致密性。本發明還提供了上述Si3N4基復合陶瓷的制備方法,工藝優化,產品質量穩定。經過實驗證明,本發明Si3N4基復合陶瓷致密性高,具有高強硬、高強韌的優異綜合力學性能,可廣泛應用于陶瓷、冶金、電子和化工等多種領域。
聲明:
“Si3N4基復合陶瓷及其制備方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)