本實用新型提供一種應用于冶金領域的用于不同寬度取向硅鋼離子氮化裝置的真空保持結構,所述的用于不同寬度取向硅鋼離子氮化裝置的真空保持結構的滲氮裝置殼體(1)上設置開口部(2),開口部(2)內安裝導電密封輥(3)和非接觸密封輥(4),導電密封輥(3)和非接觸密封輥(4)之間形成取向硅鋼處理腔體(5),開口部(2)內還安裝調寬密封輥(12),調寬密封輥(12)一側安裝在開口部(2)側面,調寬密封輥(12)另一側設置噴嘴(14),本實用新型的取向硅鋼滲氮裝置用真空控制結構,能夠方便快捷實現不同寬度的待處理取向電工鋼在滲氮前可靠實現清理、活化,取向硅鋼處理腔體密封性好,滿足后續滲氮處理需求,確保滲氮質量穩定。
聲明:
“用于不同寬度取向硅鋼離子氮化裝置的真空保持結構” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)