本實用新型公開了一種鑭熱還原法制備的金屬靶材裝置,包括稀土氧化物,金屬鑭碎屑,不銹鋼模具,坩堝,真空還原爐,靶模,其特征在于所述不銹鋼模具中設有稀土氧化物與金屬鑭碎屑的混合物,且稀土氧化物:金屬鑭碎屑的比例為1:1.2?1.5;所述混合物在不銹鋼模具中被1000×105Pa?10000×105Pa的壓制壓力壓制成塊狀,形成成型板坯;所述板坯設置在坩堝中,坩堝放置在真空還原爐中;且靶模位于坩堝的中央頂部,在靶??谔幑潭◤V口收集器,且靶模倒置固定在真空還原爐頂部;該裝置可以縮短生產流程,減少金屬氧化環節,模具可多次使用,節約材料,支撐的金屬靶材密度高,密度均勻,成本低,易加工等優點,完全能夠滿足OLED屏幕使用要求的密度與純度,內含雜質少。
聲明:
“鑭熱還原法制備的金屬靶材裝置” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)