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    > 采用電子束蒸發技術制備Ga2O3光電薄膜的方法

    采用電子束蒸發技術制備Ga2O3光電薄膜的方法

    1114   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
    2023-03-18 14:58:02
    本發明屬于一種光電薄膜制備技術領域，具體涉及一種采用電子束蒸發技術制備Ga2O3光電薄膜的方法。本發明提供的技術方案是：通過Ga2O3高純（99.995%）粉體制胚并真空燒結，再粉碎成粒后作為起鍍材料，采用e型槍對起鍍材料進行直接真空蒸發，使起鍍材料氣化成分子或原子沉積在襯底材料上，并通過控制沉積速率和沉積氛等關鍵工藝參數，最終獲得大面積高純度的Ga2O3薄膜。本發明方法制備成本低、重復性好、工藝要求簡單、可控性好，所獲得的薄膜呈現各向同性的非晶結構，在可見?近紅外范圍透過較高，吸收較小，不僅適宜于光學應用，并且通過后退火處理，使其晶化后具有紫外光電探測和氣敏等特性。
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    “采用電子束蒸發技術制備Ga2O3光電薄膜的方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業用途，請聯系該技術所有人。
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    真空冶金
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