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    高純大尺寸SIC晶體襯底材料的制備方法

    877   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
    2023-03-18 14:58:54
    本發明適用于半導體技術領域，提供了一種高純大尺寸SIC晶體襯底材料的制備方法，包括以下步驟：S1、按一定化學計量比稱量硅粉和碳粉，將它們混合均勻后加入到石墨坩堝中；S2、在S1中的石墨坩堝中添加含有氯元素的先驅體并攪拌均勻；S3、將S2中的石墨坩堝放入真空燒結爐中后關爐，待真空抽至≤10?4Pa以后，再充入稀有氣體至所需壓強；S4、按一定升溫速率進行升溫至所需溫度進行高溫合成，待一段時間后降溫后，停爐取出樣品。本發明通過添加含氯元素的先驅體，實現厚膜外延材料，單層外延層厚度達80微米，突破厚膜生長的重復性、穩定性、一致性等產業化瓶頸共性技術，并且消除硅滴以及硅組分失配等外延缺陷。
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    “高純大尺寸SIC晶體襯底材料的制備方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業用途，請聯系該技術所有人。
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