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    鉻硅合金濺射靶材及其制備方法

    1148   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
    2023-03-18 15:00:01
    本發明提供了一種鉻硅合金濺射靶材及其制備方法，所述制備方法包括以下步驟：(1)篩分純度≥99.98％的鉻硅合金原料，得到鉻硅合金粉末；(2)將步驟(1)所得鉻硅合金粉末進行真空熱壓燒結處理，得到鉻硅合金靶坯；(3)將步驟(2)所得鉻硅合金靶坯進行機加工，得到鉻硅合金濺射靶材；其中，步驟(2)所述真空熱壓燒結處理包括順次進行的第一保溫處理、第二保溫處理與保溫保壓處理，且所述保溫保壓處理的加壓過程分為至少2個加壓階段。本發明提供的制備方法保證了靶材的高密度，改善了微觀結構均勻性和濺射性能，同時簡化了工藝流程，提升了生產效率，降低了生產成本，拓寬了適用范圍。
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