本發明提供了一種等離子體增強化學氣相沉積用碳化硅陶瓷舟,包括碳化硅陶瓷舟體,所述碳化硅陶瓷舟體由形狀為“U”形的基座、設置在所述基座左頂端的第一支撐架和設置在所述基座右頂端的第二支撐架一體成型而成,所述第一支撐架的頂部開設有第一卡槽,所述第二支撐架的頂部開設有第二卡槽,所述基座側壁、第一支撐架和第二支撐架均為鏤空結構。本發明還提供了一種制備上述等離子體增強化學氣相沉積用碳化硅陶瓷舟的方法。本發明碳化硅陶瓷舟具有孔隙率低、高強度、輕質、高抗氧性、高抗震性等性能,并且其不與硅片反應,可廣泛用于等離子體增強化學氣相沉積鍍膜領域。
聲明:
“等離子體增強化學氣相沉積用碳化硅陶瓷舟及其制備方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)