本實用新型涉及一種靶材生產用真空電子束熔煉爐,包括真空電子束熔煉爐,所述真空電子束熔煉爐右表面設有插接至真空電子束熔煉爐內的上料機構,所述上料機構外周壁設有插接至上料機構內的密封機構。該靶材生產用真空電子束熔煉爐,通過多級推桿輸出軸伸長對柱狀原料進行緩慢推動,通過底部第一電動推桿輸出軸收縮,對下料孔進行部分遮擋,減小出料的口徑,使顆粒狀原料緩慢掉落至輸送帶上,然后通過輸送帶對顆粒狀原料進行輸送,從而即可滿足對柱狀的原料輸送,同時也能滿足對顆粒狀原料的輸送,達到了適應性強的目的,而通過設置第二電動推桿和升降板,則可以提高每次上料后抽真空的速度,方便使用。
聲明:
“靶材生產用真空電子束熔煉爐” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)