在掩模臺(RST)上固定一個其上形成有至少一個針孔狀圖案的基準板(RFM),掩模臺(RST)上固持地移動掩模(R)。因此,例如可以不用任何特殊類型的測量用掩模,通過把連結型波前測量儀(80)設置到襯底臺(WST)上、利用照明系統(IOP)照射基準板并利用波前測量儀接收通過投影光學系統在針孔狀圖案處產生的球面波,來測量投影光學系統(PL)的波前象差。因此,可以以理想的計時很容易地測量投影光學系統的波前象差,這使得能夠對投影光學系統進行充分地質量控制。因此,可以利用進行了充分地質量控制的投影光學系統把掩模圖案精確地轉印到襯底上。
聲明:
“曝光裝置、曝光法和器件制造法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)