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    水平井入靶過斷層的軌跡控制方法

    928   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
    2023-03-04 00:30:27
    本發明涉及水平井入靶過斷層的軌跡控制方法，包括如下步驟：根據已完鉆井地層對比獲取施工井所在區域的標志層劃分數據、施工井地質工程設計給出的靶點數據以及斷層數據；在沿軌跡方向的地震剖面上獲取斷層斷距；由工程設計軌跡確定斷層位置視平移對應的井斜、垂深，并計算出斷層距離靶點的垂深；判斷斷層所在的層位，選取該層位上部和下部各一套標志層，并計算在鄰井中兩套標志層之間的垂厚及標志層二距靶點的垂厚；算出鉆遇標志層二時的井斜和斜深；判斷軌跡是由斷層的上升盤鉆至下降盤，還是由斷層的下降盤鉆至上升盤，根據不同的軌跡設計不同的入靶過程。本發明通過合理的軌跡控制，減小或規避斷層帶來的影響，實現軌跡順利入靶的目的。
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    “水平井入靶過斷層的軌跡控制方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業用途，請聯系該技術所有人。
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