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    化學機械拋光后芯片表面形貌評測方法及系統

    890   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
    2023-03-19 06:49:08
    本發明公開了一種化學機械拋光后芯片表面形貌評測方法及系統，屬于集成電路制造技術領域。該化學機械拋光后芯片表面形貌評測方法，包括：獲取芯片在上一工藝階段的表面形貌參數和研磨液的選擇比；獲取當前工藝階段的工藝參數和研磨液的選擇比；將芯片的當前表面版圖劃分為多個連續窗格，分別提取每個窗格的版圖特征參數；判斷研磨液的選擇比是否發生變化，如果是，則根據上一工藝階段的表面形貌參數、工藝參數、版圖特征參數和當前工藝階段研磨液的選擇比，計算芯片在當前工藝階段的表面形貌參數；根據當前工藝階段的表面形貌參數對芯片的表面形貌進行評測。該化學機械拋光后芯片表面形貌評測方法，能夠精確地對芯片表面形貌進行評測。
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    “化學機械拋光后芯片表面形貌評測方法及系統” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業用途，請聯系該技術所有人。
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