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    直接探測中子的10BN材料的低氣壓化學氣相沉積生長裝置及其生長方法

    1050   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
    2023-03-19 06:50:32
    本發明公開一種直接探測中子的10BN材料的低氣壓化學氣相沉積生長裝置及其生長方法，以源加熱爐加熱生長源，使其分解為氣態產物，以氬氣或者氮氣作為氣態產物的載氣，在混氣罐中混氣結束后通入剛玉管中進行10BN薄膜的生長。該生長方法使用的生長源為富集10B，使得生長的10BN薄膜中有較好的10B豐度；該生長方法的生長源與載氣在混氣罐中混氣結束后通入反應腔室，使得生長源能和載氣均勻混合，能有效地提高10BN薄膜的生長速率和質量；該生長方法利用加熱線圈加熱生長源的傳輸路徑，以減少前驅體在傳輸過程中的損耗；該生長方法利用雙溫區的高溫管式爐，使得溫度場更加穩定。
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    聲明：
    “直接探測中子的10BN材料的低氣壓化學氣相沉積生長裝置及其生長方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業用途，請聯系該技術所有人。
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