一種用于控制化學機械平坦化的系統及方法,化學機械平坦化系統包括用以在化學機械平坦化制程中保持半導體晶圓的化學機械平坦化頭。系統包括定位成在化學機械平坦化卸載了半導體晶圓之后擷取化學機械平坦化的影像的攝影機??刂葡到y分析影像以判定化學機械平坦化頭是否損壞。若化學機械平坦化頭損壞,則控制系統防止進一步的化學機械平坦化操作,直至修復化學機械平坦化頭為止。若控制系統未檢測到任何損壞,則控制系統允許化學機械平坦化頭接收下一個半導體晶圓以進行化學機械平坦化。
聲明:
“用于控制化學機械平坦化的系統及方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)