一種用于處理基板的裝置包括:殼體,具有處理基板的處理空間;支撐單元,在處理空間中支撐基板;噴嘴,將化學物質分配到基板上;化學物質供應單元,將化學物質供應到噴嘴;以及控制器,控制化學物質供應單元?;瘜W物質供應單元包括:罐,具有儲存化學物質的內部空間;傳感器,檢測儲存在罐中的化學物質的剩余量;入口管線,將化學物質從化學物質供應源供應到罐;出口管線,將化學物質從罐供應到噴嘴;以及排放管線,排出罐中的化學物質。在化學物質保留在罐中的狀態下,當由傳感器檢測到的剩余量達到第一預設量或更少時,控制器控制化學物質供應單元將新的化學物質從化學物質供應源供應到罐。
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