本發明公開了用于熱控制光刻化學工藝的系統、裝置和方法。熱控制系統包括包含多個熱傳感器元件的多區帶熱感應單元。這些熱元件被配置用于檢測襯底上多個預定義區帶的溫度。該系統還包括包含多個熱耦元件的多區帶熱調整單元,這些熱耦元件被配置用于調整預定義區帶的溫度。該系統還包括可操作地并且可通信地耦合到多區帶熱感應單元和多區帶熱調整單元的熱控制器單元。熱控制器單元接收來自多區帶熱感應單元的檢測溫度,處理所檢測的溫度信息,基于經處理的溫度信息生成溫度控制信息,并將溫度控制信息傳輸到多區帶熱調整單元以調整預定義區帶的溫度。
聲明:
“光刻化學工藝的自適應性熱控制” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)