本發明提供一種化學機械拋光設備及其防碰撞方法,化學機械拋光設備包括:工作臺、拋光墊、第一研磨裝置、第二研磨裝置、防碰撞傳感器以及運動控制器,第一研磨裝置包括第一擺動旋轉機構、第一擺臂和第一研磨頭,第一擺動旋轉機構具有第一擺動電機;第二研磨裝置包括第二擺動旋轉機構、第二擺臂、第二研磨頭,第二擺動旋轉機構具有第一擺動電機;防碰撞傳感器用于檢測第一研磨頭與第二研磨頭之間的距離;運動控制器與防碰撞傳感器通信連接,能夠在防碰撞傳感器檢測到第一研磨頭與第二研磨頭之間的距離小于等于第一預設值時,控制第一擺動電機和第二擺動電機停止運作。
聲明:
“化學機械拋光設備及其防碰撞方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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