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    銅的環?；瘜W機械拋光方法

    1048   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
    2023-03-19 07:01:15
    一種銅的環?；瘜W機械拋光方法，屬于超精密加工技術領域。陶瓷研磨顆粒為二氧化硅、三氧化二鋁、氧化鎂、二氧化鈰，顆粒的平均粒徑為20?120nm，重量百分比1?6％。氨基有機物為脯氨酸、氨基葡萄糖、殼寡糖、甲殼素、纖維素，重量百分比為0.4?2.5％。拋光液的pH值為3?7。對銅片進行研磨，研磨液為去離子水，然后對銅片進行化學機械拋光，拋光時工件和拋光盤的轉速均為40?80rpm，壓力為20?40kPa，拋光液流速為60?80mL/min，拋光時間為5?10min。拋光銅片的測量范圍為50×70μm2，表面粗糙度Ra達到0.4?0.7nm。本發明實現了銅的超光滑超低損傷環?；瘜W機械拋光。
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